特許

J-GLOBAL ID：200903057340046290

ドライエツチング方法

発明者： 小林 元樹
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 敏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-267822
公開番号（公開出願番号）：特開平5-003179
出願日： 1991年10月16日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、アルミニウムを含む金属膜をアンダカットなく、さらに残渣なく異方性エッチングすることができるドライエッチング方法を提供することを目的とする。【構成】 無機物マスクが形成されたアルミニウムを含む金属膜を有する基板20を準備し、塩化物ガスと酸素ガス及び窒素ガスからなる混合ガスまたは、塩化物ガスと塩素ガスと酸素ガス及び窒素ガスからなる混合ガスをマイクロ波と磁場とで相互作用させて放電プラズマを生成し、この放電プラズマによってアルミニウムを含む金属膜をエッチングする。

請求項（抜粋）：

アルミニウムを含む金属膜を有する基板を準備し、塩化物ガスと酸素ガス及び窒素ガスから成る混合ガスをマイクロ波と磁場とで相互作用させて放電プラズマを生成し、前記放電プラズマによって前記アルミニウムを含む金属膜をエッチングすることを特徴とするドライエッチング方法。

IPC (2件)：

H01L 21/302 ,  C23F 4/00

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-249421
  
• 特開昭55-021594
  
• 特開昭60-105235
  
• 特開昭64-082630