特許
J-GLOBAL ID：200903057340924956
描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
松浦 孝
, 小倉 洋樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-115068
公開番号（公開出願番号）：特開2005-300805
出願日： 2004年04月09日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】 基板を連続的に搬送させている間に基板の位置ずれが生じてもパターンずれを生じず、高解像度のパターンを形成させる。【解決手段】 4つの露光ヘッド12A〜12Dを基板SW上方に配置し、露光ヘッド12A〜12Dによる露光エリアEA1〜EA4を、基板SW上に規定される走査バンドS1〜S4に沿って相対移動させる。そして、露光ヘッド12A〜12Dにそれぞれ設けられた4つのDMDを、露光エリアEA1〜EA4の相対位置に応じて独立制御し、パターンに応じた露光動作を実行する。位置ずれ計測センサ17A〜17Dは、基板SWのそれぞれの場所における位置ずれを検出する。走査バンドS3において変位量を検出した場合、分割パターンデータを変位量に応じてデータシフトさせ、DMDの描画エリアを変位量に応じてシフトさせる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
連続的に搬送される基板に対し直接描画する描画装置であって、
パターン形成のため光を放射する光源と、
それぞれ複数の光変調素子を規則的に配列させ、前記基板の搬送方向に沿って規定される複数の走査バンドに対し、前記光源からの光をそれぞれ前記複数の光変調素子の位置に応じて前記基板へ投影する複数の光変調ユニットと、
前記複数の走査バンドに従って生成され、それぞれ前記複数の光変調素子の配列に応じたデータ配列をもつ一連の分割描画データに基づいて、前記複数の光変調ユニットを独立制御する描画手段と、
前記基板の搬送方向を基準ラインとして、搬送方向に直交する変位方向に沿って生じる前記基板の位置ずれの変位量を検出する位置ずれ検出部と、
検出された変位量に基づいて、描画の補正処理を実行する描画補正手段とを備え、
前記複数の光変調ユニット各々が、対応する走査バンド幅よりサイズの大きい全体照射エリアを有し、
前記複数の光変調ユニットによる複数の露光エリアが搬送方向に沿って互いに離れて位置決めされるように、前記複数の光変調ユニットが配置され、
前記描画手段が、前記全体照射エリアの中で走査バンド幅に合った露光エリアを形成する描画エリアを規定し、前記描画エリア内に配置された光変調素子によって描画し、
前記描画補正手段が、検出される位置ずれの変位量に基づき、位置ずれを補正する方向へ向けて補正対象の分割描画データと補正対象の描画エリアとそれぞれシフトさせることを特徴とする描画装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 529
, H01L21/30 519
2H097AA03
, 2H097AA07
, 2H097AB07
, 2H097BA02
, 2H097BB10
, 2H097CA17
, 2H097FA09
, 2H097GB04
, 5F046AA26
, 5F046BA07
出願人引用 (1件)
-
走査式描画装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平11-028131
出願人：旭光学工業株式会社
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