テトラヒドロピラニル基で部分エーテル化されたポリヒドロキシスチレン及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-082361
公開番号（公開出願番号）：特開平7-268030
出願日： 1994年03月29日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：

【要約】【構成】下記構造式(1)及び(2)で示される繰り返し単位を有し、分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜1.4の範囲にあるテトラヒドロピラニル基で部分エーテル化されたポリヒドロキシスチレン。【化1】【効果】本発明のテトラヒドロピラニル基で部分エーテル化されたポリヒドロキシスチレンは、分子量分布が狭分散(Mw/Mn=1.0〜1.4)で分子量の制御が容易であり、レジスト材料として使用した場合に解像度及び現像特性が高く、LSI用レジスト材料として極めて有効である。

請求項（抜粋）：

下記構造式(1)及び(2)で示される繰り返し単位を有し、分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量)が1.0〜1.4の範囲にあるテトラヒドロピラニル基で部分エーテル化されたポリヒドロキシスチレン。【化1】

IPC (2件)：

C08F 12/22 MJY , C08F 8/06 MGC

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平2-161436
特開平4-211258
特開平2-177031

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