特許

J-GLOBAL ID：200903057353350100

基板処理装置

発明者： 長良 修治 ,  中川 均
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-327904
公開番号（公開出願番号）：特開平10-154680
出願日： 1996年11月22日
公開日（公表日）： 1998年06月09日
要約：

【要約】【課題】 引火、爆発性の雰囲気を生成する処理液を使用した場合においても、処理液の液漏れを検出して処理液加熱装置における空焚き現象の発生を防止することのできる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】 基板処理装置は、処理液を貯留する処理液槽1と、ヒータ28を内蔵した処理液加熱装置2と、処理液槽1の上端からオーバフローした処理液を一時的に貯留する溢流部3と、溢流部3と処理液加熱装置2とを接続する流路5aと、処理液加熱装置2と処理液槽1とを接続する流路5bと、流路5a中に配設され溢流部3内に一時的に貯留された処理液を処理液加熱装置2に圧送するベローズポンプ4とを備える。流路5b中には、処理液を検出するための2個のセンサ6、7が配設されている。

請求項（抜粋）：

基板処理部に処理液を供給する処理液の流路中に、処理液を加熱するためのヒータを備える処理液加熱装置を配設した基板処理装置において、前記処理液の流路における処理液加熱装置の下流側に、処理液と接触することなく処理液を検出する非接触方式のセンサを配設したことを特徴とする基板処理装置。