特許

J-GLOBAL ID：200903057356242880

薄膜形成装置及び薄膜形成方法

発明者： 国枝 敏明
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (3件)： 青山 葆 ,  河宮 治 ,  和田 充夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-335147
公開番号（公開出願番号）：特開2004-169092
出願日： 2002年11月19日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：

【課題】ターゲットより飛翔させた薄膜形成粒子をフィルム状基板に付着させて薄膜を形成する際に、上記フィルム状基板に熱的損傷を発生させることなく、均一な膜厚かつ膜質で上記薄膜を形成することができ、さらに、上記ターゲットの利用効率を向上させる。【解決手段】ターゲットから薄膜形成粒子を飛翔させて、基板保持ドラムの周面に沿って走行するフィルム状基板の表面に上記薄膜形成粒子を付着させて、薄膜を形成する薄膜形成装置において、上記ターゲットと同じ材料の別のターゲットを、上記基板保持ドラムの上記周面と上記成膜用電極部との間の空間に面するように配置させて、上記ターゲットから薄膜形成のために飛翔された上記薄膜形成粒子の一部を、上記別のターゲットの表面に付着させて回収し、上記別のターゲットを使用する際に上記回収された薄膜形成粒子を再利用する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

成膜用電極部(21)上に載置されるターゲット(23)から薄膜形成粒子を飛翔させて、上記ターゲットと対向された基板保持ドラム(13)の周面(13a)に沿って走行するフィルム状基板(7)の表面に上記薄膜形成粒子を付着させて、連続的に薄膜を形成する薄膜形成装置(101)において、 上記ターゲットと同じ材料の別のターゲット(24)を、上記基板保持ドラムの上記周面と上記成膜用電極部との間の空間(Z)に面するように載置可能であるターゲット回収部(22A、22B)とを備えることを特徴とする薄膜形成装置。

IPC (1件)：

C23C14/34

FI (1件)：

C23C14/34 C

Fターム (7件)：

4K029AA11 ,  4K029AA25 ,  4K029CA05 ,  4K029DA10 ,  4K029DC16 ,  4K029JA10 ,  4K029KA01