特許
J-GLOBAL ID:200903057365799277

光波干渉測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山口 孝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-217087
公開番号(公開出願番号):特開平11-044503
出願日: 1997年07月28日
公開日(公表日): 1999年02月16日
要約:
【要約】【課題】 たとえばダブルパス構成においてコーナーキューブプリズムの端面反射に起因する測定誤差の発生を回避した高精度な光波干渉測定装置。【解決手段】 光源(300)からの光を参照光路を通過する参照光と移動鏡(140)が配置された測定光路を通過する測定光とに分離するための偏光ビームスプリッタ(110)と、測定光路を往復した後に偏光ビームスプリッタを介して入射した測定光を入射光路とほぼ平行な射出光路に沿って反射して偏光ビームスプリッタに戻すための反射手段(200)とを備えている。反射手段は、入射光路に沿って入射した測定光を順次反射して射出光路に沿って射出するための複数の反射鏡を有する。
請求項(抜粋):
光源からの光を参照光路を通過する参照光と移動鏡が配置された測定光路を通過する測定光とに分離するための偏光ビームスプリッタと、前記測定光を前記測定光路で複数回往復させるために、前記測定光路を往復した後に前記偏光ビームスプリッタを介して入射した前記測定光を入射光路とほぼ平行な射出光路に沿って反射して前記偏光ビームスプリッタに戻すための反射手段と、前記参照光路を介した前記参照光と前記測定光路を介した前記測定光との干渉光に基づいて、前記移動鏡の変位量を検出するための検出手段とを備え、前記反射手段は、前記入射光路に沿って入射した前記測定光を順次反射して前記射出光路に沿って射出するための複数の反射鏡を有することを特徴とする光波干渉測定装置。
IPC (3件):
G01B 9/02 ,  G01B 11/00 ,  G02B 5/30
FI (4件):
G01B 9/02 ,  G01B 11/00 F ,  G01B 11/00 G ,  G02B 5/30

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