特許

J-GLOBAL ID：200903057368223554

洗浄剤

発明者： 原 靖 ,  青木 雅裕 ,  林 博朗
出願人/特許権者： 東ソー株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-101532
公開番号（公開出願番号）：特開2003-292993
出願日： 2002年04月03日
公開日（公表日）： 2003年10月15日
要約：

【要約】【課題】 半導体デバイスの銅等による配線の平坦化処理後に行われる洗浄において、配線材料を腐食させにくい洗浄剤を提供する。【解決手段】 洗浄剤が、ピペラジン類及び/又はモルホリン類等の環状アミンとエチレンアミン類とを含むものであって、ピペラジン類としては、ピペラジン、N-メチルピペラジン、N,N'-ジメチルピペラジン、ヒドロキシエチルピペラジン、N-メチル-N'-ヒドロキシエチルピペラジン、アミノエチルピペラジン、N,N',N'-トリメチルアミノエチルピペラジンであり、モルホリン類としては、モルホリン、N-メチルモルホリン、ヒドロキシエチルモルホリン、アミノエチルモルホリン、N,N-ジメチルアミノエチルモルホリン等であり、また、エチレンアミン類としては、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン等からなる。

請求項（抜粋）：

環状アミン及びエチレンアミン類を含んでなる洗浄剤。

IPC (3件)：

C11D 7/32 ,  C23G 5/036 ,  H01L 21/304 647

FI (3件)：

C11D 7/32 ,  C23G 5/036 ,  H01L 21/304 647 A

Fターム (20件)：

4H003DA09 ,  4H003DA15 ,  4H003EA05 ,  4H003EB13 ,  4H003EB20 ,  4H003ED31 ,  4H003FA15 ,  4K053PA06 ,  4K053PA13 ,  4K053QA07 ,  4K053RA17 ,  4K053RA25 ,  4K053RA40 ,  4K053RA41 ,  4K053RA49 ,  4K053RA52 ,  4K053RA54 ,  4K053RA59 ,  4K053RA63 ,  4K053SA06

引用特許：

審査官引用 (2件)

• フォトレジスト剥離剤組成物及びその使用方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-055180   出願人：ナガセ電子化学株式会社
• 水性フッ化アンモニウムおよびアミンを用いた、半導体ウエハ洗浄組成物および方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平10-531118   出願人：アドバンスドケミカルシステムズインターナショナル,インコーポレイテッド