特許

J-GLOBAL ID：200903057368423782

超音波処理装置

発明者： 安藤 茂 ,  大島 功治
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-213542
公開番号（公開出願番号）：特開2000-024494
出願日： 1998年07月13日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：

【要約】【課題】 幅広い汚染濃度に対応でき、また触媒機能が長期に渡って劣化することのない有害物質分解、殺菌、浄化、合成、等を行う超音波処理装置を提供することにある。【解決手段】 かかる問題を解決するため、本発明では吸着材に触媒を付加または練り込んだ触媒体表面または内部に超音波を照射し、その振動エネルギー、発生熱、生成物質、のうち少なくとも一つを利用して有害物質分解、殺菌、合成、等を行う。

請求項（抜粋）：

吸着材に触媒を付加または練り込んだ触媒体と、超音波照射手段からなり、該触媒体の表面または内部に超音波を照射し、有害物質分解、殺菌、浄化、合成、等を行うことを特徴とする超音波処理装置。

Fターム (15件)：

4G075AA37 ,  4G075BA05 ,  4G075BB04 ,  4G075BB10 ,  4G075BD05 ,  4G075CA23 ,  4G075CA54 ,  4G075EA02 ,  4G075EC30 ,  4G075ED15 ,  4G075EE01 ,  4G075FB01 ,  4G075FB02 ,  4G075FB03 ,  4G075FB06