特許
J-GLOBAL ID：200903057370450959
表面分析方法および装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-287566
公開番号（公開出願番号）：特開平5-126769
出願日： 1991年11月01日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：
【要約】【目的】プローブビームである真空紫外から軟X線領域の光の集光光学系の試料面への自動焦点あわせが可能な表面分析装置を提供する。【構成】光源1からの真空紫外から軟X線領域の光を光学素子2を用いて集光し、集光領域に発生した蛍光を光学素子2によって集光して照射領域の蛍光像を観測する。この像の大きさから集光X線の集光領域の大きさを計測し、試料台3の位置,角度を自動的に調節して試料面上に光学素子2の焦点をあわせる。【効果】試料面上にプローブビームの集光点を自動的にあわせることができ、高空間分解能で表面分析を行うことができる。
請求項（抜粋）：
真空紫外から軟X線領域の光を発生させ、前記光を試料面上へ集光し、光照射により前記試料の表面から放出された粒子を観測する表面分析方法において、光照射により発生した蛍光を観測することにより、前記真空紫外から軟X線領域の光の前記試料面上への焦点あわせを自動的に行うことを特徴とする表面分析方法。
IPC (4件)：
G01N 23/223
, G01R 31/26
, G01R 31/302
, H01L 21/66
