特許
J-GLOBAL ID：200903057378103077
ガスバリアー性高分子フィルムおよびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-348895
公開番号（公開出願番号）：特開平6-192819
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：
【要約】【目的】透明高分子フィルム基板とその上に形成された酸化珪素薄膜を有するガスバリアー性高分子フィルムであって、ガスバリアー性に優れ、かつ該基板と該薄膜との付着力が良好なガスバリアー性高分子フィルムを提供する。【構成】透明高分子フィルム基板の上に、SiOx(1.3≦x≦1.8)でなる厚さ200〜1000オングストロームの酸化珪素薄膜が形成されたガスバリアー性高分子フィルムであって、該ガスバリアー性高分子フィルムの水蒸気透過率が1g/m2/日以下であり、かつ該高分子フィルム基板に対する該酸化珪素薄膜の剥離強度が100g/cm以上であるガスバリアー性高分子フィルム。
請求項（抜粋）：
透明高分子フィルム基板の上に、SiOx(1.3≦x≦1.8)でなる厚さ200〜1000オングストロームの酸化珪素薄膜が形成されたガスバリアー性高分子フィルムであって、該ガスバリアー性高分子フィルムの水蒸気透過率が1g/m2/日以下であり、かつ該高分子フィルム基板に対する該酸化珪素薄膜の剥離強度が100g/cm以上であるガスバリアー性高分子フィルム。
引用特許：
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