特許

J-GLOBAL ID：200903057380314913

光学用合成石英ガラス及び吸収帯の生成防止方法

発明者： 葛 生 伸
出願人/特許権者： 日本石英硝子株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-123085
公開番号（公開出願番号）：特開平8-295520
出願日： 1995年04月24日
公開日（公表日）： 1996年11月12日
要約：

【要約】【目的】 高パルス数(106ショット以上)のエキシマレーザー照射や、誘電体バリア放電エキシマランプのように連続的に長時間(連続数百時間)にわたり照射しても、吸収帯の生成のない安定した光学用合成石英ガラス及び吸収帯の生成を防止する方法を提供する。【構成】 四塩化珪素を酸水素火炎中で加水分解し、直接堆積ガラス化してなる合成石英ガラスにおいて、酸水素火炎の水素と酸素の比がモル比で2.2以上の条件下で合成し、かつOH基を1150ppm以上含有してなる光学用合成石英ガラス及びエネルギー線長時間照射による吸収帯の生成を防止する方法。

請求項（抜粋）：

四塩化珪素を酸水素火炎中で加水分解し、直接堆積ガラス化してなる合成石英ガラスにおいて、酸水素火炎の水素と酸素の比がモル比で2.2以上の条件下で合成し、かつOH基を1150ppm以上含有してなる光学用合成石英ガラス。

IPC (4件)：

C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  H01S 3/08

FI (4件)：

C03B 8/04 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  H01S 3/08 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 光学用合成石英ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-093951   出願人：日本石英硝子株式会社, 山口日本石英株式会社