特許
J-GLOBAL ID：200903057381410339
電場または磁場印加水処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横井 幸喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-297591
公開番号（公開出願番号）：特開平9-108680
出願日： 1995年10月20日
公開日（公表日）： 1997年04月28日
要約：
【要約】【課題】 圧力の小さい、かつ浮遊物の閉塞の少ない構造で、電場または磁場を印加する。【解決手段】 水通路に、水路管の内周壁に沿った形状の内周面を有する対極からなる対の磁極3、3と異種材料よりなる対の電極4a、4bを設ける。【効果】 水路管内で処理水が円滑かつ適度な速度で流れ、通過時に生じる圧力損失が小さい。にもかかわらず、効率的な水処理を可能にし、浮遊物の閉塞も起こりにくい。
請求項（抜粋）：
処理水が流れる水路管の一部周壁に、少なくとも1対の嵌込み用貫通孔が対向して形成されており、前記対の嵌込み用貫通孔に、対極からなる対の磁極または異種材料よりなる対の電極のいずれかが着脱可能に嵌込み固定されており、各磁極および電極は、水路管の内周壁に沿った形状の内周面を有することを特徴とする電場または磁場印加水処理装置
IPC (2件)：
FI (3件)：
C02F 1/48 A
, C02F 1/48 B
, F16L 58/00
