特許

J-GLOBAL ID：200903057388641352

分散メッキ皮膜

発明者： 村松 仁 ,  松本 栄治
出願人/特許権者： スズキ株式会社
代理人 (1件)： 奥山 尚男 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-294221
公開番号（公開出願番号）：特開平8-158097
出願日： 1994年11月29日
公開日（公表日）： 1996年06月18日
要約：

【要約】【目的】 皮膜硬度を適度に低下させ、相手部品の摩耗及び摩滅を防止し、さらに広範囲にわたって硬度の調製を行うことができるようにした分散メッキ皮膜を提供する。【構成】 Niメッキ皮膜又はNi-Pメッキ皮膜中にNi粒子を共析させることとした。

請求項（抜粋）：

Niメッキ皮膜又はNi-Pメッキ皮膜中にNi粒子を共析させてなることを特徴とする分散メッキ皮膜。