特許

J-GLOBAL ID：200903057396754344

被処理体支持具

発明者： 重松 伸明
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-375149
公開番号（公開出願番号）：特開2000-182979
出願日： 1998年12月11日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】 被処理体面内の膜厚の均一性を大幅に向上させることができる被処理体支持具を提供する。【解決手段】 縦型熱処理炉で熱処理すべき複数の被処理体Wを所定のピッチで支持する被処理体支持具44において、複数の支柱2と、前記被処理体Wと略同じ大きさに或いはそれ以上の大きさに形成されて、前記支柱に所定のピッチで設けられた板部材54と、この板部材54の周縁部に設けられて、前記被処理体Wの裏面の周縁部と接触してこれを支持する支持凸部12と、この板部材54に散在させて設けられた複数のガス流通孔58とを備える。これにより、被処理体中心部におけるガス流を促進して、被処理体面内の膜厚の均一性を大幅に向上させる。

請求項（抜粋）：

縦型熱処理炉で熱処理すべき複数の被処理体を所定のピッチで支持する被処理体支持具において、複数の支柱と、前記被処理体と略同じ大きさ或いはそれ以上の大きさに形成されて、前記支柱に所定のピッチで設けられた板部材と、この板部材の周縁部に設けられて、前記被処理体の裏面の周縁部と接触してこれを支持する支持凸部と、この板部材に散在させて設けられた複数のガス流通孔とを備えたことを特徴とする被処理体支持具。

IPC (3件)：

H01L 21/22 511 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/22 511 G ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/68 N

Fターム (18件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031HA64 ,  5F031MA28 ,  5F045AA06 ,  5F045AB02 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045AB40 ,  5F045BB02 ,  5F045DP19 ,  5F045EC02 ,  5F045EE20 ,  5F045EF05 ,  5F045EF14 ,  5F045EM06 ,  5F045EM08 ,  5F045EM09