特許
J-GLOBAL ID：200903057399387512
プラズマ処理方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-162202
公開番号（公開出願番号）：特開2002-352999
出願日： 2001年05月30日
公開日（公表日）： 2002年12月06日
要約：
【要約】【課題】 周囲環境の変化などによるプラズマ発生の不安定な要素や、被処理物のバラツキを考慮すると、経験的に得られたプラズマ条件により、長期的に安定した処理を得ることは難しい。【解決手段】 被処理物119に付着した有機物117を除去する前に、発振器122から発生させた紫外レーザ123を有機物117に照射して、その反射光125をフォトダイオードセンサー126により検出し、その検出値を解析装置127により演算し、発生させるプラズマ量を制御装置116により制御する。
請求項（抜粋）：
反応管にアルゴンガス、ヘリウムガス、酸素ガスの混合気体を導入すると共に外側電極と内側電極の間に交流電圧を印加することにより前記反応管の内部にグロー放電を発生させる工程と、この反応管から吹き出すプラズマジェットを被処理物に吹き付けることにより、被処理物表面に付着した有機物を除去する工程と、紫外レーザを前記被処理物に照射し、その反射光を検出する工程と、この検出光により、発生させるプラズマ量を決定する工程とを有することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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