特許

J-GLOBAL ID：200903057401328251

フォトレジスト溶液の調製方法

発明者： ヴォルフガング・ツァーン ,  ラルフ・グロッテンミューラー ,  カリーナ・ブラオホ-フィッシャー ,  アンドレアス・ドレセル ,  シュテファン・エングラート ,  ダニエラ・ブラハ
出願人/特許権者： エイズィー・エレクトロニック・マテリアルズ・(ジャーマニー)・ゲーエムベーハー
代理人 (7件)： 社本 一夫 ,  小野 新次郎 ,  増井 忠弐 ,  小林 泰 ,  千葉 昭男 ,  富田 博行 ,  小磯 貴子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-371425
公開番号（公開出願番号）：特開2006-209099
出願日： 2005年12月26日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：

【課題】簡便な感光性フォトレジスト溶液の調製方法の提供。【解決手段】ノボラック樹脂とジアゾナフトキノンスルホニルクロリドを複数のフォトレジスト溶媒に溶解し、ノボラック樹脂のフェノール性ヒドロキシル基の1〜70mol%の割合を塩基存在下で(置換基を有していても良い)ジアゾナフトキノンスルホニルクロリドと反応させる。そして、この反応混合物を水洗し、塩基成分を除去し、所望により、さらなるフォトレジスト溶媒で希釈することを特徴とする、ノボラック樹脂の部分エステル化方法に関する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

感光性フォトレジスト溶液の調製方法であって、ノボラック樹脂とジアゾナフトキノンスルホニルクロリドをフォトレジスト溶媒(1以上)からなる群からの溶媒1種に溶解し、ノボラック樹脂のフェノール性ヒドロキシル基の1〜70mol%の割合を塩基存在下でジアゾナフトキノンスルホニルクロリドと反応させ、そして、反応混合物を水洗し、所望によりさらなるフォトレジスト溶媒で希釈することを特徴とする、前記方法。

IPC (5件)：

G03F 7/26 ,  G03F 7/023 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08G 8/28

FI (5件)：

G03F7/26 ,  G03F7/023 501 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R ,  C08G8/28 B

Fターム (21件)：

2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025BE02 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB28 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096BA10 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  4J033CA02 ,  4J033CA11 ,  4J033CA44 ,  4J033CB18