特許
J-GLOBAL ID：200903057406025249
等倍投影型露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-140787
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326567
出願日： 1994年05月31日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 走査露光中におけるキャリッジの姿勢変化とレベリング駆動により発生するマスクと基板との相対位置ずれを補正して、安定した転写精度を確保する等倍投影型露光装置を提供する。【構成】 マスク2上のパターンを照明する光学系と、これを通過した光束を等倍な正立正像で感光基板5上に投影する光学系1と、これらを一体的に保持する保持手段10がある。又マスクステージ3と感光基板ステージ4とを一体的に保持し、1系に対して所定方向に移動するためのキャリッジ手段6を備え、これを移動させて、1系に対する姿勢変化を検出し、マスクと基板5との相対位置ずれ検出手段11〜17と、この結果によりマスクと基板5とを移動させて位置ずれを補正する手段7〜9を備えている。
請求項（抜粋）：
マスク上のパターンを所定形状の照明領域で照明するための照明光学系と、前記マスク上のパターンを通過した光束を実質的に等倍な正立正像で感光基板上に投影するための投影光学系と、前記照明光学系および前記投影光学系を一体的に保持するための保持手段と、前記マスクが載置されたマスクステージと前記感光基板が載置された感光基板ステージとを一体的に保持し、前記投影光学系に対して所定方向に移動するためのキャリッジ手段とを備え、前記キャリッジ手段を前記所定方向に移動させつつ、前記マスク上のパターンを前記投影光学系を介して前記感光基板上に投影露光する等倍投影型露光装置において、前記投影光学系に対する前記キャリッジ手段の姿勢変化を検出することによって前記マスクと前記感光基板との相対位置ずれを検出する相対位置ずれ検出手段と、前記相対位置ずれ検出手段の検出結果に基づいて前記マスクと前記感光基板とを相対移動させ、前記マスクと前記感光基板との相対位置ずれを補正するための相対位置ずれ補正手段とを備えていることを特徴とする等倍投影型露光装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 517
, H01L 21/30 525 D
, H01L 21/30 525 F
