特許
J-GLOBAL ID:200903057415556117

アフィニティー型自己集合システムならびにフォトニクスおよびエレクトロニクス用素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-528771
公開番号(公開出願番号):特表2001-506931
出願日: 1997年11月26日
公開日(公表日): 2001年05月29日
要約:
【要約】分子電子および光素子の作成;シリコンまたは他の材料上へのナノ構造、サブミクロンおよびミクロンサイズの部品の組織化、集合および相互接続;超小型電子または光電子部品および素子のパラメータでのナノ構造、サブミクロンおよびミクロンサイズの部品の組織化、集合および相互接続;光および電子構造、素子およびシステムの作成、配列および製造;高ビット密度三次元および四次元光学データ記憶材料および素子の開発を行うための構成単位としての機能化されたプログラム可能な自己集合性核酸、核酸修飾構造および他の選択的アフィニティーまたは結合成分の電界支援自己集合を可能にする方法と装置。第一支持体上で第一部品素子を製作し、少なくとも一つの第一部品素子を第一支持体から放出し、その第一部品素子を第二支持体に輸送し、第一部品素子を第二支持体に取付ける各段階を含むマイクロスケールおよびナノスケール素子製作法。ある構造に複数のアフィニティー表面アイデンティティを与え、その構造を電界内で配向し、配向させた構造をアフィニティー部位と反応させる各段階を含む二次元および三次元分子スケール、ナノスケールおよびマイクロスケール構造の製作法を提供する。
請求項(抜粋):
マイクロスケールおよびナノスケール素子製作法であって、次の各段階を含む方法: 第一部品素子を第一支持体上で製作し(ただし該第一部品素子は少なくとも第一特定DNAポリマー配列をその上に含む)、 少なくともーつの第一部品素子を第一支持体から溶液中に放出し、 第一部品素子をホスト支持体に輸送し、 ホスト支持体上の選択した位置に第一部品素子を取付ける(ただしホスト支持体は第一部品素子上の第一特定DNAポリマー配列に対する相補DNAポリマー配列を含有し、その取付けには第一部品素子上の第一特定DNAポリマー配列とホスト支持体上の相補DNAポリマー配列の相互作用が含まれる)。
IPC (5件):
B82B 3/00 ,  B41M 5/26 ,  C12N 15/09 ,  G02B 1/04 ,  G11B 7/24 516
FI (5件):
B82B 3/00 ,  G02B 1/04 ,  G11B 7/24 516 ,  C12N 15/00 A ,  B41M 5/26
引用特許:
審査官引用 (5件)
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引用文献:
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