特許

J-GLOBAL ID：200903057418659561

磁気中性線放電プラズマ処理装置

発明者： 内田 岱二郎
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 八木田 茂 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-030678
公開番号（公開出願番号）：特開平8-225967
出願日： 1995年02月20日
公開日（公表日）： 1996年09月03日
要約：

【要約】【目的】 プラズマ処理装置において、磁気中性線放電によりプラズマを生成すること及びそのプラズマの特性及び生成位置を電気的に任意に調整可能にすること。【構成】 電磁コイルまたは直線状電流棒から成る交流磁場発生手段により発生し空間的に連続した磁場ゼロの位置から成る磁気中性線に沿って高周波または直流電場発生手段により放電を起させ、プラズマを発生する。

請求項（抜粋）：

真空チャンバ内でプラズマを利用して被処理物を処理するようにした放電プラズマ処理装置において、一定の周波数をもつ交流電流によって励磁され、真空チャンバ内に空間的に連続して存在する磁場ゼロの位置である磁気中性線を形成するようにした交流磁場発生手段と、この交流磁場発生手段によって形成された磁気中性線に沿って電場を形成してこの磁気中性線に放電プラズマを発生させる電場発生手段とを設けたことを特徴とする磁気中性線放電プラズマ処理装置。

IPC (7件)：

C23F 4/00 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  C23C 14/35 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (7件)：

C23F 4/00 G ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  C23C 14/35 C ,  H01L 21/203 Z ,  H05H 1/46 C ,  H01L 21/302 B