特許
J-GLOBAL ID:200903057434898282

陰極線管およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須山 佐一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-194526
公開番号(公開出願番号):特開平10-040834
出願日: 1996年07月24日
公開日(公表日): 1998年02月13日
要約:
【要約】【課題】 AEF防止に有効な高輝度で表面抵抗の低い反射防止膜を備えた陰極線管と、そのような陰極線管を低価格で製造する方法を提供する。【解決手段】 本発明の陰極線管においては、銀または銀化合物の超微粒子などの導電性微粒子からなる導電層の直上に、SiO2 を主成分としシリコーン類および/またはZrO2 を含む層が設けられている。そして、このような陰極線管の製造においては、導電性微粒子層の直上に、SiO2 を主成分としアルコキシシラン等を含む塗布層を形成し、上下塗布層を同時に焼成する。フルオロアルキル基を有するアルコキシシラン誘導体を使用することで、膜の耐水性や耐薬品性を向上させることができる。
請求項(抜粋):
フェースプレートの前面パネルの外表面に、導電性微粒子からなる少なくとも1層の導電層を有し、かつ該導電層を含めた2層以上の積層による反射防止膜を有する陰極線管において、前記導電層の直上に、SiO2 を主成分としシリコーン類を含有する層を設けたことを特徴とする陰極線管。
IPC (3件):
H01J 29/88 ,  G02B 1/11 ,  H01J 9/20
FI (3件):
H01J 29/88 ,  H01J 9/20 A ,  G02B 1/10 A

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