特許
J-GLOBAL ID:200903057451637468

トランス、フェライト磁心およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 前田 均 ,  西出 眞吾 ,  大倉 宏一郎 ,  佐藤 美樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-011898
公開番号(公開出願番号):特開2005-209708
出願日: 2004年01月20日
公開日(公表日): 2005年08月04日
要約:
【課題】 電磁気特性に優れたフェライト磁心、たとえば総高調波歪(THD)の小さいフェライト磁心を提供すること。【解決手段】 フェライト成形体を焼成し、フェライト焼結体を得る焼成工程と、前記焼成工程の後に、フェライト焼結体を加工する加工工程と、前記加工工程の後に、前記加工を行ったフェライト焼結体を、不活性ガス雰囲気中、500°C以上、900°C以下の温度で、熱処理を行う熱処理工程とを含有することを特徴とするフェライト磁心の製造方法、および該方法で製造されるフェライト磁心。【選択図】 無し
請求項(抜粋):
フェライト磁心の製造方法であって、 フェライト成形体を焼成し、フェライト焼結体を得る焼成工程と、 前記焼成工程の後に、フェライト焼結体を加工する加工工程と、 前記加工工程の後に、前記加工を行ったフェライト焼結体を、不活性ガス雰囲気中、500°C以上、900°C以下の温度で、熱処理を行う熱処理工程とを含有することを特徴とするフェライト磁心の製造方法。
IPC (4件):
H01F41/02 ,  C04B35/26 ,  H01F27/255 ,  H01F30/00
FI (4件):
H01F41/02 D ,  C04B35/26 B ,  H01F27/24 D ,  H01F31/00 A
Fターム (4件):
4G018AA21 ,  4G018AA25 ,  4G018AC22 ,  4G018AC23
引用特許:
出願人引用 (5件)
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