特許
J-GLOBAL ID：200903057455819935
縦型減圧CVD装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-302462
公開番号（公開出願番号）：特開平5-112870
出願日： 1991年10月21日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：
【要約】【目的】 ボート上部のウェーハ上のパーティクル数を低減させ、ボート上方空間部付近の壁面への膜の異常堆積を軽減する。【構成】 ボート4の上方空間部に膜前駆体ラジカルの吸着材1を設置する。
請求項（抜粋）：
ボート(4)に載置されたウェーハ(7)に薄膜を形成する縦型減圧CVD装置において、ボート(4)の上方空間部に膜前駆体ラジカルの吸着材(1)を設置してなる縦型減圧CVD装置。
IPC (2件)：
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