特許
J-GLOBAL ID:200903057465519948

トンネル掘削法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 葛和 清司
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-517027
公開番号(公開出願番号):特表2003-507604
出願日: 2000年06月28日
公開日(公表日): 2003年02月25日
要約:
【要約】切削ヘッド、掘削により除去された土のための掘削チャンバおよび前記土を掘削チャンバから除去するための運搬手段を有する土圧バランスシールドトンネル掘削機を用いてトンネルを掘削する方法であって、前記切削ヘッドによって掘削されている土層に発泡水溶液が注入され、(a)前記水溶液が、2つの必須成分である(i)硫酸塩またはスルホン酸塩含有陰イオン性界面活性剤、および(ii)β-ナフタレン硫酸塩-ホルムアルデヒド復水を含有すること、および(b)掘削チャンバおよびコンベアーの少なくとも1つにおいて、本質的に高分子量のポリエチレンオキシドを、および任意に硫酸塩またはスルホン酸塩含有陰イオン性界面活性剤を含有する第2水溶液が、掘削により除去された土に適用されることを特徴とする、前記方法。該方法は、切削ヘッドから掘削チャンバへ、そして掘削チャンバから前記機械外への土の除去を容易にする。これは、粘土および水の含量が高い、粘着性の土を取り扱う場合に特に有効である。
請求項(抜粋):
切削ヘッド、掘削により除去された土のための掘削チャンバおよび前記土を掘削チャンバから除去するための運搬手段を有する土圧バランスシールドトンネル掘削機を用いてトンネルを掘削する方法であって、前記切削ヘッドによって掘削されている土層に発泡水溶液が注入され、(a)前記水溶液が、2つの必須成分である(i)硫酸塩またはスルホン酸塩含有陰イオン性界面活性剤、および(ii)β-ナフタレン硫酸塩-ホルムアルデヒド復水を含有すること、および(b)掘削チャンバおよびコンベアーの少なくとも1つにおいて、本質的に高分子量のポリエチレンオキシドを、および任意に硫酸塩またはスルホン酸塩含有陰イオン性界面活性剤を含有する第2水溶液が、掘削により除去された土に適用されることを特徴とする、前記方法。
IPC (3件):
E21D 9/12 ,  C09K 7/02 ,  E21D 9/06 301
FI (3件):
E21D 9/12 D ,  C09K 7/02 A ,  E21D 9/06 301 M
Fターム (4件):
2D054AC04 ,  2D054CA09 ,  2D054DA03 ,  2D054DA39

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