特許
J-GLOBAL ID：200903057469924910
走査型露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-125691
公開番号（公開出願番号）：特開平7-307284
出願日： 1994年05月16日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：
【要約】【目的】本発明は走査型露光装置において、複数の投影光学系を用いて露光される露光パターンの精度を従来に比して一段と向上させる。【構成】露光に先だつて、複数の投影光学系12A〜12Cが照明するマスク2と感光基板3との相対的な間隔を任意の位置について求め、記憶装置19に記憶しておく。そして走査露光の際にはこの相対的な間隔に基づいてマスク2と感光基板3との相対的な間隔が所定の関係を満たすように制御する。これにより複数の露光領域におけるマスク2と感光基板3との間の間隔をほぼ一定に保つたまま走査露光することができる。
請求項（抜粋）：
マスク上の複数の領域をそれぞれ照明し、該複数の領域のそれぞれの像を複数の投影光学系を介して感光基板上に投影すると共に、前記マスクと前記感光基板とを前記複数の投影光学系に対して走査させることにより、前記マスクの全面を前記感光基板上に露光する走査型露光装置において、前記露光に先だつて、前記マスクと前記感光基板との相対的な間隔を、該マスク及び該感光基板上の任意の位置について測定する測定手段と、前記測定手段によつて測定された前記相対的な間隔と前記位置とを関連付けて記憶する記憶手段と、前記マスク及び又は前記感光基板を駆動し、該マスクと該感光基板との相対的な位置関係を補正する位置補正手段と、前記露光の際、記憶された前記相対的な間隔と前記位置とに基づいて、前記マスクの像が投影される前記複数の領域に関する前記マスクと前記感光基板との相対的な間隔が所定の関係を満たすように前記位置補正手段を制御する制御手段とを具えることを特徴とする走査型露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 518
, H01L 21/30 526 Z
