特許
J-GLOBAL ID:200903057497170009

平面光導波路装置とその製造方法並びに光送受信装置とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-163411
公開番号(公開出願番号):特開平11-352345
出願日: 1998年06月11日
公開日(公表日): 1999年12月24日
要約:
【要約】【課題】 従来例に比較して大きな屈折率変化量を有するグレーティングを形成することができ、広い反射帯域と改善された波長遮断特性を有し、しかも加工性、集積化に適した平面光導波路装置とその製造方法、並びに光送受信装置とその製造方法を提供する。【解決手段】 2本の光導波路3a,3bの所定の2箇所を近接することにより形成された第1と第2のカプラ5a,5bを備えた平面光導波路装置である。ここで、第1と第2のカプラ5a,5bの間に位置する2本の光導波路3a,3bにそれぞれ、紫外線をチャープグレーティングマスクを介して照射することによって入射する所定の第1の波長の光信号を反射しかつ所定の第2の波長の光信号を透過するチャープグレーティング4a,4bを形成する。
請求項(抜粋):
2本の光導波路の所定の2箇所を近接することにより形成された第1と第2のカプラを備えた平面光導波路装置において、上記第1と第2のカプラの間に位置する2本の光導波路にそれぞれ、紫外線をチャープグレーティングマスクを介して照射することによって形成され、入射する所定の第1の波長の光信号を反射しかつ所定の第2の波長の光信号を透過するチャープグレーティングを備えたことを特徴とする平面光導波路装置。

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