特許

J-GLOBAL ID：200903057498634467

低屈折率膜、低反射膜、及び低反射帯電防止膜

発明者： 阿部 啓介 ,  真田 恭宏 ,  森本 剛 ,  平塚 和也 ,  竹宮 聡 ,  久保田 恵子
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (1件)： 泉名 謙治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-098910
公開番号（公開出願番号）：特開平5-270864
出願日： 1992年03月25日
公開日（公表日）： 1993年10月19日
要約：

【要約】【構成】SiアルコキサイドとZr(C5 H7 O2 )n (OR)m を含む塗布液を塗布後、加熱かつ/又は紫外線照射により低屈折率膜を形成する。ガラス基体上に、SnO2 :Sb等の導電性微粒子を含みTiO2 等からなる導電性高屈折率層を形成した後、上記方法で低屈折率膜を形成して、2層からなる低反射帯電防止膜を製造する。【効果】耐擦傷性に優れた低反射帯電防止膜を提供できる。

請求項（抜粋）：

Si化合物とZr(C5 H7 O2 )n (OR)m (但しn+m=4,n=1〜3,m=1〜3,R:C1 〜C4 のアルキル基)を含む塗布液を基体上に塗布した後、加熱かつ/又は紫外線照射により形成された低屈折率膜。

IPC (4件)：

C03C 17/25 ,  G02B 1/10 ,  H01J 29/28 ,  G02B 5/28