特許
J-GLOBAL ID:200903057516145843

ポリアルキルシルセスキオキサン粒子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-021585
公開番号(公開出願番号):特開平11-286551
出願日: 1999年01月29日
公開日(公表日): 1999年10月19日
要約:
【要約】【課題】 粒径分布の狭いポリアルキルシルセスキオキサン粒子を製造するための方法を提供すること。【解決手段】 (a)アルキルトリアルコキシシラン又はその部分加水分解縮合体に界面活性剤を溶かす工程;(b)その混合物に水を混合する工程;及び(c)その混合物に塩基性物質を添加してポリアルキルシルセスキオキサン粒子を得る工程を含んで成るポリアルキルシルセスキオキサン粒子の製造方法。
請求項(抜粋):
(a)アルキルトリアルコキシシラン又はその部分加水分解縮合体に界面活性剤を溶かす工程;(b)その混合物に水を混合する工程;及び(c)その混合物に塩基性物質を添加してポリアルキルシルセスキオキサン粒子を得る工程を含んで成るポリアルキルシルセスキオキサン粒子の製造方法。

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