特許
J-GLOBAL ID:200903057520420247
ゴムの表面改質法および該方法で得られたゴム成形体
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 俊一郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-003302
公開番号(公開出願番号):特開平11-199691
出願日: 1998年01月09日
公開日(公表日): 1999年07月27日
要約:
【要約】【解決手段】 重合可能な官能基を2個以上含有する官能基含有モノマーおよび溶剤を含有する処理液を、ゴム基材と接触させて、少なくとも官能基含有モノマーをゴム基材表面およびゴム基材内部に存在させた後、得られた接触処理ゴム基材を加熱することにより、該モノマーをその官能基間の反応により重合させ、ゴム基材表面とその近傍の改質を行うことを特徴とするゴムの表面改質法。上記官能基含有モノマーが、官能基含有含フッ素化合物類および/または官能基含有オルガノシロキサン類であることが好ましい。【効果】 ゴム材料が本来有する強度、圧縮永久歪、シール性、変形追従性等の特性を保持しつつ、非粘着性、低摩擦性、耐摩耗性および耐プラズマ性に優れたゴム成形体が得られる。
請求項(抜粋):
重合可能な官能基を2個以上含有する官能基含有モノマーおよび溶剤を含有する処理液を、ゴム基材と接触させて、少なくとも官能基含有モノマーをゴム基材表面およびゴム基材内部に存在させた後、得られた接触処理ゴム基材を加熱することにより、該モノマーをその官能基間の反応により重合させ、ゴム基材表面とその近傍の改質を行うことを特徴とするゴムの表面改質法。
IPC (2件):
C08J 7/16 CEQ
, C08J 7/04 CEQ
FI (2件):
C08J 7/16 CEQ
, C08J 7/04 CEQ M
引用特許:
審査官引用 (29件)
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特開平1-240536
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表面処理剤および表面処理されたEPDM物品
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-192871
出願人:東芝シリコーン株式会社
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特開平1-095156
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半導体製造装置用シール材
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-251393
出願人:三菱電線工業株式会社
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特開平4-103641
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特開平1-240536
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特開平1-095156
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特開平4-103641
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特開平1-301725
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特開平1-301725
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特開平4-202239
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特開平4-202239
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表面改質ゴム製品とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-140749
出願人:住友ゴム工業株式会社
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特開平4-211438
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特開平4-211438
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特開昭53-057281
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特開昭53-057281
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特開昭62-129307
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特開昭62-129307
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表面改質ゴムの製造方法、表面改質ゴムおよびシール材
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-353437
出願人:日本バルカー工業株式会社
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特開平1-240536
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特開平1-095156
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特開平4-103641
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特開昭63-318944
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オルガノポリシロキサン組成物及びゴム部品
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-228801
出願人:信越化学工業株式会社
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オルガノポリシロキサン組成物及びゴム部品
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-329910
出願人:信越化学工業株式会社
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特開昭56-078960
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特開昭58-180555
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特開平3-258825
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