特許
J-GLOBAL ID：200903057533863040
レーザマーキング装置および方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-316659
公開番号（公開出願番号）：特開平10-156560
出願日： 1996年11月27日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：
【要約】【課題】 良好な加工深さを得るとともに、加工速度を向上する。【解決手段】 被加工物上の一箇所に複数回Qスイッチレーザ光を照射して一つのドットを形成する過程で、メモリ1に予め格納された加工プログラムにしたがって制御部2が、Qスイッチ素子を制御して、共振器3から出力されるQスイッチレーザ光の発振周波数を第1の周波数から該第1の周波数よりも高い第2の周波数に変化させる。
請求項（抜粋）：
被加工物上の一箇所に複数回Qスイッチレーザ光を照射して一つのドットを形成するレーザマーキング装置であって、前記一つのドットを形成する過程で、前記Qスイッチレーザ光の発振周波数を第1の周波数から該第1の周波数よりも高い第2の周波数に変化させる手段を備えることを特徴とするレーザマーキング装置。
IPC (3件)：
B23K 26/00
, H01L 23/00
, H01S 3/11
B23K 26/00 B
, B23K 26/00 N
, H01L 23/00 A
, H01S 3/11
