特許

J-GLOBAL ID：200903057546656397

ポジ型シリコーン含有感光性組成物

発明者： 安波 昭一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-020224
公開番号（公開出願番号）：特開2000-221685
出願日： 1999年01月28日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】 Deep-UV領域での光吸収が小さく、短波長光源に対応し得る感光性組成物を提供することであり、詳しくは高感度で且つ高い解像力を有し、更に、特に0.2μm以下の微細パターンに於ける現像処理後の膜減りが少なく、矩形形状を与える感光性組成物を提供することを目的とする。更に酸素プラズマ工程での下層へのパターンの転写の際に寸法シフト(寸法変動)が少なく、寸法再現性に優れた感光性組成物を提供すること。【解決手段】 特定の構造の繰り返し単位を有し、水には不溶性、アルカリには可溶性であるシリコン含有ポリマー、活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物、側鎖に特定の構造を有する基を含む繰り返し単位を含有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリマーとを含有するポジ型シリコーン含有感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(a)下記一般式〔I〕及び/又は〔II〕で表される繰り返し単位を有し、水には不溶性、アルカリには可溶性であるポリマーと、(b)活性光線もしくは放射線の照射により酸を発生する化合物と、(c)側鎖に下記一般式〔III〕、一般式(IV)又は一般式(V)で表される基を含む繰り返し単位を含有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する性質のあるポリマーとを含有することを特徴とするポジ型シリコーン含有感光性組成物。【化1】〔一般式〔I〕、〔II〕中、Xは、-C(=O)-R基、-CH(OH)-R基及びカルボキシル基よりなる群から選択される基であり、式中の複数のXは同一でも、異なっていてもよい。ここでRは、水素原子又は置換基を有していてもよい炭化水素基を示す。R’〜R'''''は、同一でも、異なっていてもよく、水酸基あるいは、置換基を有していてもよい、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アラルキル基及びフェニル基よりなる群から選ばれた基である。Yは、アルキル基、アルコキシ基又はシロキシル基である。R0は、水素原子、ハロゲン原子、置換基を有していてもよい、脂肪族炭化水素基及び芳香族炭化水素基よりなる群から選ばれた基を表す。l、m、n及びqは、各々0又は正の整数、pは正の整数を示す。【化2】一般式〔III〕〜(V)中、Ra、Rb、Rcは、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。sは、2以上の整数を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/075 511 ,  C08L 83/06 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/075 511 ,  C08L 83/06 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (26件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  4J002AA05X ,  4J002BC02X ,  4J002BE00X ,  4J002BE04X ,  4J002BF00X ,  4J002BG03X ,  4J002BG13X ,  4J002CP05W ,  4J002CP06W ,  4J002FD156 ,  4J002GP00