特許
J-GLOBAL ID：200903057558538349
真空域に配置され、水冷される部品の結露防止方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷川 昌夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-315257
公開番号（公開出願番号）：特開平6-158283
出願日： 1992年11月25日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：
【要約】【目的】 真空処理装置の真空域に配置され、水冷される部品に、該真空域の大気開放時においても結露を発生させない結露防止方法及び装置を提供する。【構成】 真空容器1における容器内壁面水冷用の水冷器11、ターゲットホルダ20、及び基板ホルダ40などの水冷される部品における、該真空容器1の大気開放時の結露を防止するために、大気開放に先立ち、水冷器11、ホルダ20、40に冷却水を流通させる水回路のうち少なくとも該部品を含む回路部分の冷却水流通を停止させ、代わりに該回路部分に温水を流通させて該部品を露点温度以上に昇温させ、そのあと容器1を大気開放する。
請求項（抜粋）：
真空処理装置の真空域に配置され、水冷される部品における、該真空域の大気開放時の結露を防止する方法であって、前記大気開放に先立ち、前記部品に冷却水を流通させる水回路のうち少なくとも該部品を含む回路部分の冷却水流通を停止させ、代わりに該回路部分に温水を流通させて前記部品を露点温度以上に昇温させ、そのあと前記真空域を大気開放することで前記部品の結露を防止することを特徴とする部品結露防止方法。
IPC (3件)：
C23C 14/22
, B01J 3/00
, H01L 21/302
