特許

J-GLOBAL ID：200903057559139790

露光装置、面位置調整装置、マスク、及びデバイス製造方法

発明者： 木田 佳己 ,  宮井 恒夫
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-207055
公開番号（公開出願番号）：特開2002-025893
出願日： 2000年07月07日
公開日（公表日）： 2002年01月25日
要約：

【要約】【課題】 スキャン露光装置とのミックス・アンド・マッチを行う際に、そのスキャン露光装置の能力を最大限に発揮させ、かつ重ね合せの際の残留誤差を効果的に抑制する静止型露光装置を提供する。【解決手段】 露光装置10は、スキャン露光装置におけるウエハ上の1つのショット領域を、静止露光により一括して露光可能なイメージフィールドを有する投影光学系PLを備えている。このため、ミックス・アンド・マッチを行う際に、スキャン露光装置で1度に露光が可能なショット領域を一度に露光することができる。従って、スキャン露光装置の最大露光可能範囲をショット領域とした1in1露光が可能となる。また、両方の露光装置のショット中心が一緒なので重ね合せによるショット回転、ショット倍率等の残留誤差を極力抑制することが可能となる。

請求項（抜粋）：

エネルギビームにより基板を露光して所定のパターンを前記基板上に形成する露光装置であって、スキャン露光装置における前記基板上の一つの区画領域を、マスクと前記基板とをほぼ静止した状態で、前記マスクから射出された前記エネルギビームを前記基板に投射して一括して露光可能な大きさのイメージフィールドを有する投影光学系を備えた露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 ,  G03F 9/02

FI (8件)：

G03F 1/08 N ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 H ,  G03F 9/02 H ,  H01L 21/30 518 ,  H01L 21/30 502 A ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 526 B

Fターム (18件)：

2H095BA02 ,  2H095BA07 ,  2H095BE03 ,  2H097AB09 ,  2H097BA10 ,  2H097CA12 ,  2H097GB01 ,  2H097JA02 ,  2H097KA03 ,  2H097KA12 ,  2H097KA20 ,  2H097KA38 ,  2H097LA10 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB25 ,  5F046DA14 ,  5F046DB05