特許

J-GLOBAL ID：200903057570030024

ITO粉末の低抵抗化処理方法

発明者： 小島 守一
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-206338
公開番号（公開出願番号）：特開平5-024837
出願日： 1991年07月23日
公開日（公表日）： 1993年02月02日
要約：

【要約】【構成】 本発明のITO粉末の低抵抗化処理方法は、ITO粉末をアルコールガス含有不活性ガス雰囲気中で 200〜450 °Cの温度での加熱処理を行なうことを特徴とする。【効果】 上記加熱処理により、ITO粉末の凝集を生じることなく、安定に脱酸素が行なわれて酸素の格子欠陥が生じ、低抵抗化が行なわれる。処理されたITO粉末は、塗布によるITO膜の形成に使用される。

請求項（抜粋）：

ITO粉末を、アルコールガスを含有する不活性ガス雰囲気中で加熱することを特徴とするITO粉末の低抵抗化処理方法。