特許
J-GLOBAL ID：200903057576986073
光学デイスク用スタンパの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-287330
公開番号（公開出願番号）：特開平5-101451
出願日： 1991年10月08日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：
【要約】 (修正有)【構成】 光学ディスク用ニッケルスタンパ製造のための電鋳において、電鋳初期は時間の増大と共に電流密度を増加させ、電鋳中期には一定の電流密度を維持し、さらに電鋳終期には電鋳中期よりも小さい一定電流密度で電鋳を行う。ことを特徴とする光学ディスク用ニッケルスタンパの製造方法。【効果】 電鋳後のニッケルスタンパの裏面の粗さを小さくすることができるため、スタンパ裏面の研磨時間の増大による歩留まりの上昇、射出成型後の基板特性が上昇する。
請求項（抜粋）：
光学ディスク用ニッケルスタンパ製造のための電鋳方法において、電鋳初期は時間の増大と共に電流密度を増加させ、電鋳中期には一定の電流密度を維持し、さらに電鋳終期には電鋳中期よりも小さい一定電流密度で電鋳を行うことを特徴とする光学ディスク用ニッケルスタンパの製造方法。
IPC (3件)：
G11B 7/26 511
, B29C 33/38
, B29L 17:00
