特許
J-GLOBAL ID:200903057580580790

ポリマー組成物及びそのポリマーの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中島 淳 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-233820
公開番号(公開出願番号):特開平10-097073
出願日: 1997年08月29日
公開日(公表日): 1998年04月14日
要約:
【要約】【課題】 熱的安定性、低熱膨張率、化学的安定性、耐水性、耐溶剤性、低誘電率、機械特性、接着特性に優れた光パターン形成可能ポリマー組成物及びそのポリマーの製造方法を提供する。【解決手段】 重量平均分子量が約1,000〜約100,000であるポリマー組成物であって、前記ポリマーが化学線に露光したときにそのポリマーの架橋又は鎖延長を可能にする第一感光性供与置換基を有する少なくとも幾つかのモノマー繰り返し単位を含み、約140°C以上の温度にさらしたときにポリマーの更なる架橋又は鎖延長を可能にする第二感熱性供与置換基も含み、前記第一置換基は前記第二置換基と同じではなく、前記ポリマーが特性構造を有するポリマー組成物を提供する。
請求項(抜粋):
重量平均分子量が約1,000〜約100,000であるポリマーを含む組成物であって、前記ポリマーが、化学線に露光したときにそのポリマーの架橋又は鎖延長を可能にする第一感光性供与置換基を有する少なくとも幾つかのモノマー繰り返し単位を含み、前記ポリマーは約140°C以上の温度にさらしたときにポリマーの更なる架橋又は鎖延長を可能にする第二感熱性供与置換基も含み、前記第一置換基は前記第二置換基と同じではなく、前記ポリマーがポリスルホン、ポリフェニレン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアリーレンエーテル、ポリフェニレン硫化物、ポリアリーレンエーテルケトン、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリエーテルイミド、ポリキノキサリン、ポリキノリン、ポリベンズイミダゾール、ポリベンズオキサゾール、ポリベンゾチアゾール、ポリオキサジアゾール、これらのコポリマー、及びこれらの混合物からなる群より選択される、ポリマー組成物。
IPC (3件):
G03F 7/038 505 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/027
FI (3件):
G03F 7/038 505 ,  C08L101/02 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開平2-202518
  • 特開平4-183707
  • 特開平2-202518
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