特許
J-GLOBAL ID:200903057582408235

CMP後洗浄プロセスのための改善されたアルカリ性の溶液

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (11件): 鈴江 武彦 ,  蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-502234
公開番号(公開出願番号):特表2009-531511
出願日: 2007年03月09日
公開日(公表日): 2009年09月03日
要約:
有機アミン及び/又は4級アンモニウム水酸化物を含む少なくとも2つの塩基性化合物、少なくとも1つの有機酸化合物、及び材料の腐食を防止する腐食剤化合物を含むアルカリ性のCMP後洗浄溶液が提供される。防止剤化合物は、好ましくは、メルカプタン化合物である。1つの具体例では、洗浄溶液は、少なくとも2つの有機アミンを含むが、4級アンモニウム水酸化物は含まない。洗浄溶液は、好ましくは、約7〜約12の範囲のpHを有する。
請求項(抜粋):
有機アミン及び4級アンモニウム水酸化物から成る群より選択される少なくとも2つの塩基性化合物; 少なくとも1つの有機酸化合物;及び メルカプタン化合物 を含む洗浄溶液。
IPC (5件):
C11D 17/08 ,  C11D 7/32 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/34 ,  H01L 21/304
FI (6件):
C11D17/08 ,  C11D7/32 ,  C11D7/26 ,  C11D7/34 ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 622Q
Fターム (34件):
4H003DA15 ,  4H003EB08 ,  4H003EB13 ,  4H003EB14 ,  4H003EB19 ,  4H003ED02 ,  4H003ED31 ,  4H003ED32 ,  4H003FA07 ,  4H003FA15 ,  4H003FA28 ,  5F157AA32 ,  5F157AA35 ,  5F157AA36 ,  5F157AA42 ,  5F157AA51 ,  5F157AA70 ,  5F157AA96 ,  5F157BA02 ,  5F157BB02 ,  5F157BB11 ,  5F157BC03 ,  5F157BC07 ,  5F157BC53 ,  5F157BC54 ,  5F157BD03 ,  5F157BD09 ,  5F157BE12 ,  5F157BF12 ,  5F157BF38 ,  5F157BF39 ,  5F157DA11 ,  5F157DB03 ,  5F157DB57

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