特許
J-GLOBAL ID:200903057582408235
CMP後洗浄プロセスのための改善されたアルカリ性の溶液
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (11件):
鈴江 武彦
, 蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 砂川 克
, 風間 鉄也
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-502234
公開番号(公開出願番号):特表2009-531511
出願日: 2007年03月09日
公開日(公表日): 2009年09月03日
要約:
有機アミン及び/又は4級アンモニウム水酸化物を含む少なくとも2つの塩基性化合物、少なくとも1つの有機酸化合物、及び材料の腐食を防止する腐食剤化合物を含むアルカリ性のCMP後洗浄溶液が提供される。防止剤化合物は、好ましくは、メルカプタン化合物である。1つの具体例では、洗浄溶液は、少なくとも2つの有機アミンを含むが、4級アンモニウム水酸化物は含まない。洗浄溶液は、好ましくは、約7〜約12の範囲のpHを有する。
請求項(抜粋):
有機アミン及び4級アンモニウム水酸化物から成る群より選択される少なくとも2つの塩基性化合物;
少なくとも1つの有機酸化合物;及び
メルカプタン化合物
を含む洗浄溶液。
IPC (5件):
C11D 17/08
, C11D 7/32
, C11D 7/26
, C11D 7/34
, H01L 21/304
FI (6件):
C11D17/08
, C11D7/32
, C11D7/26
, C11D7/34
, H01L21/304 647A
, H01L21/304 622Q
Fターム (34件):
4H003DA15
, 4H003EB08
, 4H003EB13
, 4H003EB14
, 4H003EB19
, 4H003ED02
, 4H003ED31
, 4H003ED32
, 4H003FA07
, 4H003FA15
, 4H003FA28
, 5F157AA32
, 5F157AA35
, 5F157AA36
, 5F157AA42
, 5F157AA51
, 5F157AA70
, 5F157AA96
, 5F157BA02
, 5F157BB02
, 5F157BB11
, 5F157BC03
, 5F157BC07
, 5F157BC53
, 5F157BC54
, 5F157BD03
, 5F157BD09
, 5F157BE12
, 5F157BF12
, 5F157BF38
, 5F157BF39
, 5F157DA11
, 5F157DB03
, 5F157DB57
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