特許
J-GLOBAL ID:200903057591642992

不活性ガス流れを精製する方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-263815
公開番号(公開出願番号):特開平10-114508
出願日: 1997年09月29日
公開日(公表日): 1998年05月06日
要約:
【要約】【課題】 不活性ガス流れを精製する方法を提供する。【解決手段】 水素、一酸化炭素、水蒸気、酸素、二酸化炭素、窒素、およびメタンを含有したアルゴンガス流れが、ガス流れを乾燥剤で乾燥し、過剰の酸素の存在下で酸化触媒と接触させることにより水素と一酸化炭素を水蒸気と二酸化炭素に酸化し、吸着によりガス流れから水蒸気と二酸化炭素を除去し、高温での化学吸着により過剰の酸素を除去し、そして極低温での吸着により窒素とメタンを除去することによって精製される。これとは別に、極低温での吸着によってガス流れから過剰の酸素が除去される。
請求項(抜粋):
(a) 水蒸気、一酸化炭素と水素の一方または両方、および窒素とメタンの一方または両方を含有した不活性ガス流れと乾燥剤とを接触させることによって、前記ガス流れから水蒸気を除去する工程;(b) 前記ガス流れ中の全ての一酸化炭素と水素を二酸化炭素と水蒸気とに酸化するのに必要な量より過剰な量の酸素の存在下にて、金属酸化物触媒、貴金属触媒、およびこれらの混合物からなる群から選ばれる酸化触媒と、工程(a)からのガス流れとを接触させ、これによって一酸化炭素と水素を実質的に含まないガス流れを生成させる工程;(c) 水選択性および/または二酸化炭素選択性の吸着剤と工程(b)からのガス流れとを接触させることによって前記ガス流れから水蒸気および/または二酸化炭素を除去し、これによって水蒸気と二酸化炭素を実質的に含まないガス流れを生成させる工程;(d) (1)少なくとも75°Cの温度での金属薬剤による化学吸着、(2)水蒸気と二酸化炭素を実質的に含まない前記ガス流れと酸素選択性の吸着剤とを約123K〜93Kの範囲の温度で接触させること、あるいは(1)と(2)の組合せによって水蒸気と二酸化炭素を実質的に含まない前記ガス流れから過剰の酸素を除去する工程;および(e) 窒素とメタンに対して選択性の吸着剤と前記ガス流れとを約173K〜93Kの範囲の温度にて接触させることによって、前記ガス流れから窒素および/またはメタンを吸着する工程;を含む、水蒸気、一酸化炭素と水素の一方または両方、および窒素とメタンの一方または両方を含有した不活性ガス流れを精製する方法。
IPC (15件):
C01B 23/00 ,  B01D 53/02 ,  B01D 53/26 101 ,  B01D 53/28 ,  B01D 53/34 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/86 ,  B01J 20/08 ,  B01J 20/10 ,  B01J 20/18 ,  B01J 23/34 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/44 ,  B01J 23/72 ,  B01J 23/755
FI (15件):
C01B 23/00 L ,  C01B 23/00 J ,  B01D 53/02 Z ,  B01D 53/26 101 Z ,  B01D 53/28 ,  B01J 20/08 Z ,  B01J 20/10 D ,  B01J 20/18 Z ,  B01J 23/34 A ,  B01J 23/42 M ,  B01J 23/44 M ,  B01J 23/72 A ,  B01D 53/34 A ,  B01D 53/36 Z ,  B01J 23/74 321 A

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