特許

J-GLOBAL ID：200903057592209524

放電プラズマ処理装置

発明者： 野上 光秀
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-259870
公開番号（公開出願番号）：特開2003-068721
出願日： 2001年08月29日
公開日（公表日）： 2003年03月07日
要約：

【要約】【課題】 放電プラズマ処理装置において、簡易な構成で電極の表面に直接固体誘電体を形成した電極を用いる放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面が固体誘電体で被覆された電極に電界を印加して放電プラズマを発生させる放電プラズマ処理装置において、前記固体誘電体が、電極を酸化処理することにより当該電の表面に形成された金属酸化物であることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

対向する一対の電極の少なくとも一方の対向面が固体誘電体で被覆された電極に電界を印加して放電プラズマを発生させる放電プラズマ処理装置において、前記固体誘電体が、電極を酸化処理することにより当該電極の表面に形成された金属酸化物であることを特徴とする放電プラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H05H 1/26

FI (2件)：

H05H 1/26 ,  H01L 21/302 B

Fターム (7件)：

5F004AA16 ,  5F004BA06 ,  5F004BA20 ,  5F004BC08 ,  5F004DA01 ,  5F004DA23 ,  5F004DB00