特許
J-GLOBAL ID：200903057596757216
繋ぎ合わせ測定装置および分割露光用マスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
古谷 史旺
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-368766
公開番号（公開出願番号）：特開2004-200509
出願日： 2002年12月19日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】分割パターン領域どうしの重なり領域が小さくても、精度良く繋ぎ合わせ状態を測定できる繋ぎ合わせ測定装置および分割露光用マスクを提供する。【解決手段】細長い重なり領域25aを介して隣接して基板に転写された第1,第2の分割パターン領域24の重なり領域に、第1の分割パターン領域の基準位置を示す第1マーク26Aと第2の分割パターン領域の基準位置を示す第2マーク26Bとを、重なり領域の長手方向に沿って異なる位置に配列してなるマーク部26に基づいて、第1,第2の分割パターン領域の繋ぎ合わせ状態を測定する装置であって、マーク部の画像を取り込み、第1マーク,第2マークの間隔φを検出する手段と、間隔φに基づいて、第1,第2の分割パターン領域の繋ぎ合わせずれ量を算出する手段とを備える。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
細長い重なり領域を介して隣接して基板に転写された第1の分割パターン領域と第2の分割パターン領域との前記重なり領域に、前記第1の分割パターン領域の基準位置を示す矩形状の第1マークと前記第2の分割パターン領域の基準位置を示す矩形状の第2マークとを、前記重なり領域の長手方向に沿って異なる位置に配列してなるマーク部に基づいて、前記第1の分割パターン領域と前記第2の分割パターン領域との繋ぎ合わせ状態を測定する繋ぎ合わせ測定装置であって、
前記マーク部の画像を取り込み、前記第1マークと前記第2マークとの間隔を検出する検出手段と、
前記検出手段によって検出された間隔に基づいて、前記第1の分割パターン領域と前記第2の分割パターン領域との繋ぎ合わせずれ量を算出する算出手段とを備えた
ことを特徴とする繋ぎ合わせ測定装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
H01L21/30 502V
, G03F1/08 D
, G03F1/08 N
, H01L21/30 502C
2H095BA05
, 2H095BB02
, 2H095BE03
, 2H095BE08
, 5F046AA11
, 5F046AA18
