特許

J-GLOBAL ID：200903057603866700

マスク、露光装置の検査方法、並びに露光方法

発明者： 若本 信二
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-216604
公開番号（公開出願番号）：特開2002-031885
出願日： 2000年07月17日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】 検査と実露光の間に生じる露光装置の特性の変化を抑制し、精度よく検査を実施することができるマスクを提供する。【解決手段】 実露光用の回路パターンにおける所定の線幅に対応して周期的に形成される複数の線状パターンPa〜Peからなる検査用パターンKPを形成する。

請求項（抜粋）：

光学系を介してマスクの回路パターンを基板上に転写する露光装置を検査するために用いられるマスクであって、前記回路パターンにおける所定の線幅に対応して周期的に形成される複数の線状パターンからなる検査用パターンを有することを特徴とするマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 1/08 P ,  G03F 1/08 N ,  G03F 1/08 S ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 514 E

Fターム (15件)：

2H095BD03 ,  2H095BD06 ,  2H095BD17 ,  2H095BD23 ,  2H095BD29 ,  2H095BE03 ,  2H095BE05 ,  2H095BE08 ,  2H095BE09 ,  5F046AA17 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046DB05 ,  5F046EB02 ,  5F046FC04