特許

J-GLOBAL ID：200903057616854922

エキシマレーザー発振装置のガス供給装置及びガス供給方法

発明者： 大見 忠弘 ,  白井 泰雪 ,  溝上 敏 ,  佐野 直人
出願人/特許権者： 大見 忠弘 ,  大阪酸素工業株式会社 ,  キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-049328
公開番号（公開出願番号）：特開平9-246672
出願日： 1996年03月06日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 高発振安定性、取扱容易、供給ガス濃度が低下し難く、簡単なパージで管内面吸着不純物の除去が行えるエキシマレーザー発振装置用のガス供給装置を提供すること。非作動期間にガス純度が低下し難いエキシマレーザー発振装置用のガス供給装置を提供すること。複数のメインライン毎のガス圧に偏りがないエキシマレーザー発振装置用のガス供給装置を提供すること。【解決手段】 発振装置31にフッ素ガスを供給する為のガス供給装置において、フッ素ガス接触面にフッ化不働態膜が設けられている。不活性ガスに接触表面に酸化クロム不働態膜が設けられている。複数の発振装置31に連通する複数の分岐ライン21を有する複数のメインライン111aの供給端及び末端はそれぞれ共通ライン111b、111cに連通している。該末端において常時1cc/min以上の流量でパージを行う。

請求項（抜粋）：

エキシマレーザー発振装置にフッ素を含むガスを供給する為のガス供給装置において、少なくとも該フッ素を含むガスが接する表面にフッ化不働態膜が設けられていることを特徴とするガス供給装置。

IPC (2件)：

H01S 3/225 ,  H01S 3/036

FI (2件)：

H01S 3/223 E ,  H01S 3/03 J

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-175855
  
• 特開平4-302185
  
• 固体表面処理装置及び処理方法、不動態膜形成装置及び方法、並びにプロセス装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-001302   出願人：大見忠弘
• 特開平2-179867