特許
J-GLOBAL ID：200903057639728398

自己接着性カチオン性又は両性フリーラジカルポリマー及びその化粧品としての使用

発明者：
ベアトリス ペロン

ベアトリス ペロン について

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セルジュ レストル

セルジュ レストル について

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ナタリー ムージン

ナタリー ムージン について


出願人/特許権者：
ロレアル

ロレアル について


代理人 (1件)： 中村 稔 (外8名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-383475
公開番号（公開出願番号）：特開2003-286317
出願日： 2002年12月20日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：
【要約】【課題】 自己接着性が強いカチオン性又は両性フリーラジカルポリマーを使用する化粧品、特にスタイリング組成物を提供すること。【解決手段】 本発明は、なくとも一つの第3又は4級アミン官能基を含むカチオン性又は両性エチレン系モノマーから誘導する一又は複数の単位を含むカチオン性又は両性フリーラジカルポリマーであって、該ポリマーで被覆した0.95cm2の二つの円形表面を牽引して引き離すときに記録される最大の引っ張り力(Fmax(Nで)によって表現して2Nより大きい自己接着値を有することを特徴とするポリマー、及びその化粧品としての使用、特にスタイリング分野における使用に関する。
請求項（抜粋）：
少なくとも一つの第3又は4級アミン官能基を含むカチオン性又は両性エチレン系モノマーから誘導する一又は複数の単位を含むカチオン性又は両性フリーラジカルポリマーであって、最大の引っ張り力(Fmax(Nで))によって表現して2Nに等しいか又はそれより大きい自己接着値を有し、かつ式(Ia)、(Ib)、(Ic)、(Id)及び(Ie)のモノマーから選択するモノマーから誘導する一又は複数の単位を含むことを特徴とするポリマー:式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、R2は直鎖、分岐した、脂環式又は芳香族C1-30の2価の炭化水素をベースとする基を表し、これはO、N及びPから選択する一又は複数のヘテロ原子を含んでもよく、R3、R4及びR5はそれぞれ独立に直鎖、分岐した、脂環式又は芳香族のC1-30の炭化水素をベースとする基を表し、これはO、N及びPから選択する一又は複数のヘテロ原子を含んでもよく、Xは酸素原子又はNH基を表し、A-は4級アミンの対応イオンを表し、好ましくはハライド、スルフェート、ホスフェート及びカルボキシレートイオン、例えばアセテートから選択し、式中、X、R1及びR2は式(Ia)及び(Ib)の意味を有し、かつRing+は、単環式又は縮合二環式、脂環式又は芳香族環系を表し、第3又は4級アミン基を含み、かつO、N及びPから選択する一又は複数の追加的なヘテロ原子を含んでもよく;式中、R6は水素原子又は直鎖若しくは分岐したC1-4アルキル基を表し、R8及びR9はそれぞれ独立に水素原子又は任意にCOO-、SO3-又はPO3H-基を有していてもよい直鎖若しくは分岐したC1-4アルキル基を表し、R7とR10はそれぞれ独立に2価の炭化水素をベースとする基、特に基-(CH2)nを表し、ここでnは両端を含む1〜4であり、任意に酸素原子で中断されていてもよく、Xは酸素原子又はNH基であり、p及びqは0又は1であり、ZはCOO-、SO3-又はPO3H-基を表し、式中R7はR8、R9又はXと共に、後者がNH基を表す場合は、芳香族又は非芳香族の5-、6-又は7-員のヘテロ環を形成することができ;式中、R11は水素原子又はメチル基を表し、R12は2価のC1-4の炭化水素をベースとする基を表し、Xは酸素原子又はNH基を表し、rは0又は1でありRing+は、単環式又は縮合二環式、脂環式又は芳香族環系を表し、第3又は4級アミン基を含み、かつO、N及びPから選択する一又は複数の追加的なヘテロ原子を含んでもよく、かつZはCOO-、SO3-又はPO3H-基を表す。
IPC (9件)：
C08F 20/34 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/08 ,  C08F 20/36 ,  C08F 20/60 ,  C08F 26/06
FI (9件)：
C08F 20/34 ,  A61K 7/00 J ,  A61K 7/032 ,  A61K 7/06 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/08 ,  C08F 20/36 ,  C08F 20/60 ,  C08F 26/06
Fターム (65件)：
4C083AA121 ,  4C083AC021 ,  4C083AC072 ,  4C083AC102 ,  4C083AC182 ,  4C083AC351 ,  4C083AC692 ,  4C083AC712 ,  4C083AC782 ,  4C083AD071 ,  4C083AD072 ,  4C083AD091 ,  4C083AD092 ,  4C083AD131 ,  4C083AD132 ,  4C083AD151 ,  4C083AD161 ,  4C083AD171 ,  4C083BB01 ,  4C083BB04 ,  4C083BB05 ,  4C083BB06 ,  4C083BB07 ,  4C083BB21 ,  4C083BB23 ,  4C083BB24 ,  4C083BB32 ,  4C083BB33 ,  4C083BB34 ,  4C083BB35 ,  4C083BB41 ,  4C083BB44 ,  4C083BB46 ,  4C083BB47 ,  4C083BB48 ,  4C083BB53 ,  4C083CC14 ,  4C083CC31 ,  4C083CC32 ,  4C083CC33 ,  4C083CC38 ,  4C083CC39 ,  4C083DD23 ,  4C083DD27 ,  4C083EE03 ,  4C083EE07 ,  4C083EE28 ,  4C083FF01 ,  4C083FF05 ,  4J100AE09P ,  4J100AE13P ,  4J100AE26P ,  4J100AL08P ,  4J100AM21P ,  4J100AQ06P ,  4J100AQ12P ,  4J100AQ19P ,  4J100BA03P ,  4J100BA31P ,  4J100BA33P ,  4J100BC52P ,  4J100BC69P ,  4J100BC79P ,  4J100DA28 ,  4J100JA61
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 毛髪化粧料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-132842   出願人：日本合成ゴム株式会社
  • 洗濯用助剤組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-015303   出願人：花王株式会社

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