特許
J-GLOBAL ID:200903057640696874
指紋認識のためのセンサ装置およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
富村 潔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-287247
公開番号(公開出願番号):特開平6-232343
出願日: 1993年10月25日
公開日(公表日): 1994年08月19日
要約:
【要約】【目的】 指紋の認識および記憶が可能で指の墨付けを省略し得るセンサ装置を提供する。【構成】 少なくとも表面においてドープされたシリコンから成る基板11を備え、基板11の表面に格子状に、基板に対して電気的に絶縁されドープされたポリシリコンから成る膜132を配置し、各膜132が空所14を画成し、空所14が膜132と基板11の表面との間に配置されるように少なくとも2つの支持個所131において基板11と各膜132とを固く結合し、膜132への力の作用の際に変化するそれぞれ基板11と膜132との間の電気的量を読出しかつ記憶する読出しユニットを備える。
請求項(抜粋):
少なくとも表面においてドープされているシリコンから成る基板(11、21)を備え、基板(11、21)の表面に格子状に、基板に対して電気的に絶縁されているドープされたポリシリコンから成る膜(132、232)が配置されており、各膜(132、232)が空所(14、24)を張っており、また空所(14、24)が膜(132、232)と基板(11、21)の表面との間に配置されるように少なくとも2つの支持個所(131、231)において基板(11、21)と固く結合されており、膜(132、232)への力の作用の際に変化するそれぞれ基板(11、21)と膜(132、232)との間の電気的量を読出しかつ記憶する読出しユニットが設けられていることを特徴とする指紋認識のためのセンサ装置。
IPC (2件):
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