特許
J-GLOBAL ID：200903057647397694

加熱調理装置自動洗浄方法と加熱調理装置自動洗浄装置

発明者：
ヴィルフリート デュルト

ヴィルフリート デュルト について

, 
ペーター ヴィーデマン

ペーター ヴィーデマン について


出願人/特許権者：
ラツィオナル アクチエンゲゼルシャフト

ラツィオナル アクチエンゲゼルシャフト について


代理人 (1件)： 中島 淳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-379978
公開番号（公開出願番号）：特開2001-204629
出願日： 2000年12月14日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：
【要約】【課題】 水、洗浄剤、脱灰剤、すすぎ剤等の消費が減少するように、加熱調理室を自動的に洗浄する方法と装置を改良する。【解決手段】 少なくとも1個の第1の貯槽14a,14bからの、洗浄剤、すすぎ剤、脱灰剤、水等の第1の液体およびまたは加熱調理室2の排水管15に接続された少なくとも第2の貯槽14c、浄化ユニット16およびポンプユニット17を備えた処理装置からの第2の液体から選択された液体が、管路系12,13a,13bを経て少なくとも1個の噴霧ヘッド11a,11bに供給可能となっている。
請求項（抜粋）：
液体を用いて加熱調理装置の少なくとも加熱調理室を自動的に洗浄するための方法において、洗浄剤、すすぎ剤、脱灰剤、水およびまたはその類似特性を含む第1の液体およびまたは洗浄時に加熱調理室から排出される第3の液体を少なくとも部分的に浄化することによって得られる第2の液体から、液体が選択されることを特徴とする方法。
IPC (2件)：
A47J 27/14 ,  B08B 3/02
FI (2件)：
A47J 27/14 B ,  B08B 3/02 F
引用特許：
審査官引用 (4件)
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