特許

J-GLOBAL ID：200903057656380257

Co合金ターゲット材の製造方法、Co合金ターゲット材および垂直磁気記録用軟磁性膜ならびに垂直磁気記録媒体

発明者： 上野 友典 ,  上野 英 ,  高島 洋 ,  藤本 光晴
出願人/特許権者： 日立金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-109958
公開番号（公開出願番号）：特開2005-320627
出願日： 2005年04月06日
公開日（公表日）： 2005年11月17日
要約：

【課題】 スパッタリングにより成膜される軟磁性膜のバラツキを抑制するとともに、スパッタリングの際に発生するパーティクルを低減したCo合金ターゲット材およびその製造方法を提供する【解決手段】 本発明は、Zrを1〜10原子%、Nbおよび/またはTaを1〜10原子%含有し、残部実質的にCoからなるCo合金ターゲット材の製造方法において、該Co合金溶湯を急冷凝固処理して合金粉末を作製した後、粉末粒径500μm以下の該合金粉末を加圧焼結するCo合金ターゲット材の製造方法である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

Zrを1〜10原子%、Nbおよび/またはTaを1〜10原子%含有し、残部実質的にCoからなるCo合金ターゲット材の製造方法において、該Co合金の溶湯を急冷凝固処理して合金粉末を作製した後、粉末粒径500μm以下の該合金粉末を加圧焼結することを特徴とするCo合金ターゲット材の製造方法。

IPC (8件)：

C23C14/34 ,  B22F3/15 ,  B22F9/08 ,  C22C1/04 ,  C22C19/07 ,  G11B5/66 ,  H01F10/16 ,  H01F41/18

FI (9件)：

C23C14/34 A ,  B22F3/15 H ,  B22F3/15 M ,  B22F9/08 A ,  C22C1/04 B ,  C22C19/07 M ,  G11B5/66 ,  H01F10/16 ,  H01F41/18

Fターム (30件)：

4K017AA04 ,  4K017BA03 ,  4K017BB08 ,  4K017BB09 ,  4K017DA03 ,  4K017EA03 ,  4K017EB00 ,  4K018AA10 ,  4K018BA20 ,  4K018BB04 ,  4K018EA11 ,  4K018KA32 ,  4K018KA42 ,  4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA24 ,  4K029BC06 ,  4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K029DC04 ,  4K029DC09 ,  5D006BB01 ,  5D006BB08 ,  5D006CA03 ,  5D006DA08 ,  5D006EA03 ,  5D006FA09 ,  5E049AA04 ,  5E049BA08 ,  5E049GC02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特公平08-014889号公報
  
• 垂直磁気記録媒体、その製造方法、磁気ヘッド及び磁気記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-085459   出願人：松下電器産業株式会社

審査官引用 (1件)

• 磁気記録媒体、その製造方法、スパッタリングターゲット、および磁気記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-094153   出願人：昭和電工株式会社