特許
J-GLOBAL ID:200903057658568768

広フィールド露光光学系

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-047342
公開番号(公開出願番号):特開平5-249379
出願日: 1992年03月04日
公開日(公表日): 1993年09月28日
要約:
【要約】【目的】 広いフィールドを有し、高解像力で投影する広フィールド露光光学系であって、反射面の加工精度・保持精度に有利な屈折光学系を提供することである。【構成】 被投影物を所定の走査幅で走査することによって投影する広フィールド露光光学系であって、被投影物を円弧状領域に照明する照明部と、光軸上に中心を有する円弧状領域の収差が補正され、上記照明部によって円弧状に照明された被投影物の像を像面内に形成する反射屈折光学系と、上記被投影物及び上記像面に配置された受光部材と、上記照明部及び上記反射屈折投影部とを相対的に移動させる駆動装置とを有し、上記反射屈折光学系は、2つの凸レンズ群と、1枚の凹面鏡より構成される。
請求項(抜粋):
被投影物を所定の走査幅で走査することによって投影する広フィールド露光光学系において、被投影物を円弧状領域に照明する照明部と、光軸上に中心を有する円弧状領域の収差が補正され、上記照明部によって円弧状に照明された被投影物の像を像面内に形成する反射屈折光学系と、上記被投影物及び上記像面に配置された受光部材と、上記照明部及び上記反射屈折投影部とを相対的に移動させる駆動装置とを有し、上記反射屈折光学系は、2つの凸レンズ群と、1枚の凹面鏡より構成されていることを特徴とする広フィールド露光光学系。
IPC (2件):
G02B 17/08 ,  G02B 27/18

前のページに戻る