特許
J-GLOBAL ID：200903057685446135
ガス圧制御装置およびガス圧制御方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-169355
公開番号（公開出願番号）：特開平6-013327
出願日： 1992年06月26日
公開日（公表日）： 1994年01月21日
要約：
【要約】【目的】 真空チャンバー内の処理ガスの分圧を正確に制御するガス圧制御装置を提供する。【構成】 マス分析機6、制御ユニット4およびマスフロー5によりガス圧制御装置を構成する。真空チャンバー1内の処理ガスと他の気体成分の存在比をマス分析機6により検出し、そのデータに応じて制御ユニット4から発せられた制御信号によりマスフロー5が、真空チャンバー1内の処理ガスの分圧が所定の値になるように真空チャンバー1に処理ガスを供給する。【効果】 この発明を半導体製造装置に適用した場合、基体上に正確に制御された所定の厚さの膜を形成することができる。
請求項（抜粋）：
薄膜を形成または加工するための真空チャンバー内の処理ガスの圧力を制御する装置であって、(a) 上記真空チャンバー内における上記処理ガスと他の気体成分の存在比を検出する手段と、(b) 上記検出手段(a) からの上記存在比に係るデータに従って制御された量の上記処理ガスを上記真空チャンバーに送り込む手段とを備えるガス圧制御装置。
IPC (2件)：
H01L 21/205
, H01L 21/302
