デポジションアシスト蒸着装置及び薄膜形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高橋昌久 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-323237
公開番号（公開出願番号）：特開2001-140061
出願日： 1999年11月12日
公開日（公表日）： 2001年05月22日
要約：

【要約】【課題】本発明は基材温度を上昇させることなく基材上に薄膜を形成させうるイオンプレーティング装置及び方法であって、通常の材質なら言うまでもなく、高い温度で変質し易い材質の基材が対象であっても、広範な材料から選択できる緻密で密着性の高い被膜を当該基材上に高い被膜形成速度で形成可能な装置と方法の提供を目的とする。【解決手段】基材に直接高周波電力を供給して安定なプラズマを生成させる一方、チャンバーは接地せずに、基材と蒸発源ボート間に直流バイアス電圧を印加してプラズマ内電子を蒸発源に集中するよう構成し、蒸発源蒸発エネルギーを加熱と電子ビーム密度の双方で制御可能にすることにより、低温でも広範な材料の緻密かつ密着性の高い薄膜を、高い速度で広範な材料の基材上に形成できるようにした。

請求項（抜粋）：

少なくとも一種類の蒸着材料の蒸発粒子ガスのみからなるプラズマを形成する高周波イオンプレーティング蒸着装置において、真空となる接地されていないチャンバー、当該チャンバー内に配置されている蒸着被膜の原料となるべき蒸発材料を収納する接地されたボート、該ボートを加熱する手段、蒸着被膜を形成すべき基材を保持する導電性部材からなる基材保持手段及びチャンバーと同電位の導電性部材からなり絶縁性部材を介して該基材保持手段を支持する支持手段並びに、高周波電力供給電源であって片極が接地され片極が高周波電力供給用インピーダンスマッチング装置を経、直流遮蔽フイルターを介して高周波基材保持手段へ接続することにより直接基材に高周波電力を供給するように構成した高周波電力供給電源、陽極を接地し陰極を高周波遮蔽フィルターを介して基材保持手段へ接続することにより基材・ボート間に直流電圧を印加するように構成した直流電圧印加電源及び前記高周波電力供給用インピーダンスマッチング装置を具えた、チャンバー内プラズマの電子がボート上の蒸発源に集中して衝突するようにしたことを特徴とするデポジションアシスト蒸着装置。

Fターム (6件)：

4K029BA46 , 4K029BA48 , 4K029BD06 , 4K029BD09 , 4K029CA03 , 4K029DD02

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開昭57-049219
特開昭60-155671
薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-138661 出願人：新明和工業株式会社

審査官引用 (3件)

特開昭57-049219
特開昭60-155671
薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-138661 出願人：新明和工業株式会社

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