特許
J-GLOBAL ID：200903057696177349
光硬化反応制御型インプリント金型およびそれを用いたインプリント加工方法ならびにインプリント加工製品
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-199912
公開番号（公開出願番号）：特開2005-354017
出願日： 2004年06月10日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：
【課題】光照射後の光樹脂硬化残膜を発生させない、小型のインプリント装置を提供する。【解決手段】光透過性の人工石英、サファイア、ポリカーボネートなどの基板用い、その基板に凹凸形状のパターンを形成してなる光硬化型インプリント金型1において、光硬化反応を制御するための樹脂膜、無機質膜などを基板上の凹凸パターンに形成したことを特徴とする、光硬化反応制御型インプリント金型1およびこれを用いたインプリント加工プロセス。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
光透過性の人工石英、サファイア、ポリカーボネートなどの基板用い、その基板に凹凸形状のパターンを形成してなる光硬化型インプリント金型において、光硬化反応を制御するための樹脂膜、無機質膜などを基板上に形成したことを特徴とする、光硬化反応制御型インプリント金型およびそれを用いたインプリント加工方法ならびにインプリント加工製品。
IPC (3件)：
H01L21/027
, B81C5/00
, G03F7/20
H01L21/30 502D
, B81C5/00
, G03F7/20 501
