露光方法および露光装置並びにマスク

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-160267
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199973
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】画面合成を伴う露光処理を行う際にも少ない枚数で露光する。【解決手段】パターン1aを有したマスクAを用いて基板に第1パターンと第2パターンとをつなぎ合わせ露光する。マスクAのパターンは、第1パターンと第2パターンとの共通パターンKPと、共通パターンKPと連続して形成され共通パターンKPとは異なる非共通パターンHP1,HP2とを有する。共通パターンKPと、非共通パターンHP1,HP2の少なくとも一部とを選択してつなぎ合わせ露光する。

請求項（抜粋）：

パターンを有したマスクを用いて基板に第1パターンと第2パターンとをつなぎ合わせ露光する露光方法において、前記マスクのパターンは、前記第1パターンと第2パターンとの共通パターンと、該共通パターンと連続して形成され該共通パターンとは異なる非共通パターンとを有しており、前記共通パターンと、前記非共通パターンの少なくとも一部とを選択して前記つなぎ合わせ露光することを特徴とする露光方法。

IPC (4件)：

G03F 9/00 , G03F 1/08 , G03F 7/20 502 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 9/00 H , G03F 1/08 D , G03F 7/20 502 , H01L 21/30 514 A , H01L 21/30 515 F

Fターム (22件)：

2H095BA01 , 2H095BB36 , 2H097AA05 , 2H097BB01 , 2H097BB10 , 2H097CA12 , 2H097CA13 , 2H097GB01 , 2H097LA12 , 5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CA02 , 5F046CB05 , 5F046CB08 , 5F046CB13 , 5F046CB17 , 5F046CB23 , 5F046CC01 , 5F046CC16 , 5F046CC17 , 5F046DA02 , 5F046DA11

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